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    • 旋轉(zhuǎn)涂覆儀
      本型號(hào)勻膠機(jī)采用全鋁合金腔體,外觀美觀堅(jiān)固;腔體上蓋則采用360°可視的有機(jī)玻璃設(shè)計(jì),便于客戶使用過...
    • 感應(yīng)爐
      感應(yīng)爐CY-IVΦ300-15KW-SS是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應(yīng)加熱/熔化系統(tǒng)。這種...
    • 1700℃管式爐
      1700℃管式爐采用高質(zhì)量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達(dá)1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
    • 全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x
      旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料,其應(yīng)用范圍包括制備太陽(yáng)能電池,制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物...
    • 桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶...
      磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)...
    • 桌面型不銹鋼腔體熱蒸發(fā)鍍膜...
      熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需...
    • 分體式高真空雙靶磁控濺射鍍...
      雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備...
    • 桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜...
      單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室S...
    • 1800度1Kg真空感應(yīng)熔...
      1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明:宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子...
    • 磁控濺射鍍膜儀
      多功能粉體包覆磁控鍍...
      該設(shè)備主要?于粉體材料、顆粒材料的包覆制備(磁控濺射鍍膜、CVD、PECVD鍍膜)及熱處理等,?于改善粉體或顆粒的表?性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
      四探針薄膜厚度測(cè)試儀
      四探針測(cè)試儀用于半導(dǎo)體、薄膜、導(dǎo)電涂層等材料的電學(xué)性能測(cè)試。四探針薄膜厚度測(cè)試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響,從而獲得更準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果
      旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜...
      旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能,賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
      桌面型雙靶磁控濺射鍍...
      本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
    • 熱蒸發(fā)鍍膜儀
      桌面型三源蒸發(fā)鍍膜儀
      熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出
      高真空三源熱蒸發(fā)鍍膜...
      三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用領(lǐng)域:金屬和介電膜 ,薄膜傳感器的制造 ,光學(xué)元件 ,納米與微電子 ,太陽(yáng)能電池等
      桌面型有機(jī)源蒸發(fā)鍍膜...
      熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜
      桌面型不銹鋼腔體熱蒸...
      熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過程中基本上無碰撞地直線飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜
    • 高溫熔煉爐
      澆筑坩堝升降式感應(yīng)加...
      澆筑坩堝升降式感應(yīng)加熱爐是一種利用電磁感應(yīng)加熱的工業(yè)爐,主要用于金屬熔煉和鑄造。其核心特點(diǎn)是坩堝可升降,便于金屬熔煉后的澆筑操作
      非自耗型高真空電弧爐
      超高溫大容量非自耗型高真空電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)驗(yàn)要求精心研發(fā)設(shè)計(jì)的一款主要用于:熔煉難熔金屬及合金,可進(jìn)行冶煉、提純、脫氧、除雜等。特別適合高校及科研院所進(jìn)行新材料的真空冶煉或小批量制備
      2000℃15kw真...
      真空感應(yīng)熔煉爐功能**、熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保,非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行小劑量的金屬樣品研究
      1800度1Kg真空...
      1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明:宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子工業(yè)所需要的合金和特殊鋼
    • 等離子鍍膜儀
      換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀
      本型號(hào)等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn),本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺(tái),用戶可以在觸控屏上實(shí)現(xiàn)一鍵換位,樣品臺(tái)可在兩個(gè)靶位自由切換,本設(shè)備體積小巧造型美觀功能強(qiáng)大,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中無高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
    • 可編程勻膠機(jī)
      全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x
      全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x是一種基于離心力原理的精密涂覆設(shè)備,通過程序化控制基片旋轉(zhuǎn)速度、加速度和時(shí)間,實(shí)現(xiàn)液體材料(如光刻膠、PDMS膠等)在基片表面的均勻分布,形成高質(zhì)量薄膜或涂層
      光刻膠烤膠機(jī)
      光刻膠烤膠機(jī)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
      8英寸晶圓烤膠機(jī)
      8英寸晶圓烤膠機(jī)在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中,主要用于光刻膠的烘烤和固化,確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
      12英寸聚四氟腔體防...
      本產(chǎn)品為旋涂?jī)x也稱勻膠機(jī),是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來涂覆膜料的設(shè)備。本型號(hào)采用工業(yè)級(jí)大功率伺服電機(jī),可實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性和均勻性
    • 涂布機(jī)
      桌面平板式涂布機(jī)
      桌面平板式涂布機(jī)廣泛用于各種高溫涂膜研究,例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、特殊納米薄膜;能夠適應(yīng)未來高溫條件下成膜的科學(xué)技術(shù)的發(fā)展
      卷繞型狹縫涂布機(jī)
      全自動(dòng)卷繞涂布機(jī)主要用于實(shí)驗(yàn)室涂布液體或膠體膜。該設(shè)備采用無級(jí)變速電機(jī)**控制涂膜速度,從而達(dá)到使樣品勻速前進(jìn)而均勻涂膜的目的
      1000mm真空加熱...
      涂布機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于制造業(yè)中的機(jī)器設(shè)備,主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產(chǎn)
      間歇式鋰電池涂布機(jī)
      間歇式鋰電池涂布機(jī)本著方便研究者使用,同時(shí)滿足涂布精度和一致性無異于生產(chǎn)的要求設(shè)計(jì),烘干效果優(yōu)異,是鋰離子電池、超級(jí)電容、鎳電池以及其他二次電池研發(fā)的理想之選
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